半導体用語集
ECR プラズマCVD装置
英語表記：electron coupling resonance plasma enhanced CVD system
マイクロ波導波管を連結し、周囲に磁場発生機構が設けられたプラズマ室と、ウェーハを収納する反応室とからなるCVD装置。2.45GHzのマイクロ波と875G（87.5mT）の磁場により高密度プラズマを発生させるイオン源を用い、反応性ガスを分解してウェーハ上に低温で薄膜を形成する。
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