半導体用語集
FZ装置
英語表記：FZ equipment
炉体部は高周波コイルにて溶融帯を形成する加熱部分を中心にその上側に原料多結晶を保持する部分、下側には種結晶を保持し、かつ、単結晶を保持し、かつ、単結晶を回転させながら引き下げを行う軸が配置されている。また、原料の多結晶の軸と種結晶の軸を同一直線上に配置すると、ウェハ面内の不純物濃度の不均一が生じるために、軸を偏芯させて配置した装置も開発され、Φ6''
の大口径結晶も製造できるようになってきている。なお、結晶成長速度は、熱容量が小さいことから、CZ結晶より速く、直径制御は、加熱コイルの電力と結晶の移動速度のシーケンシャル制御をベースに、溶融帯幅をCCDカメラなどで測定しながら制御する方法を採用している。
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