半導体用語集
UV洗浄
英語表記：ultra-violet light cleaning
紫外線を照射して被洗浄物を洗浄する方法。低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、エキシマランプなどを用いる。低圧水銀ランプでは光の波長が185nm、253nmであり、大気中でオゾン発生を促して有機物を酸化除去する。ランプと被洗浄物の距離は10-50mm程度である。高圧水銀ランプは365nmの波長で主にUV接着剤のラジカル重合による硬化に用いられる。エキシマランプは172nmの波長で酸素に吸収されるため、有機物の直接分解を行うことができる。低圧水銀ランプに比べて洗浄速度が数倍高速化するが、酸素に触れると光が吸収されて被洗浄物まで到達しなくなるため、距離を数mmまで近づけるか、空間を酸素から遮蔽する必要がある。
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