半導体用語集
イオン化蒸着
英語表記：ionized vapor deposition
イオンを利用した蒸着法の総称。狭義には、イオンプレーティング法やイオンビーム堆積をいう。堆積させたい原子の一部または大部分をイオン化する場合は、イオンビーム堆積やイオンプレーティング法である。堆積させたい原子は中性であるが、基板上にArイオンなどを照射してイオンによる基板上での原子のマイグレーション促進や打込効果を利用する（イオンビームアシスト効果）こともあるが、これらもイオン化蒸着の一つとしてとらえられることもある。
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