半導体用語集
カルーセル
英語表記：carousel
CMP装置において複数の研磨ヘッドが取り付けられた回転体をいう。一般的には、研磨布を貼った回転定盤（プラテン）に対して研磨ヘッドは固定位置になった装置が多いが、このカルーセルに複数の研磨ヘッドを回転木馬状に配置することで、研磨ヘッドのマルチ化が図れ、スループット向上につながる。このタイプのCMP装置としてはCybeq社製のものが知られている。研磨量のウェーハ面内均一性を向上させるためには、加圧と下降線速度がウェーハ面内で均一であることが必要となる。研磨ヘッドの回転数とカルーセルの回転数の和がプラテンの回転数となる条件を用いることにより、ウェーハ面内で均一な加工線速度が得られる。
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