半導体用語集
コールドウォール
英語表記：cold wall
コールドウォールに対比する用語は、ホットウォールである。CVD法では、基板は加熱されるのが一般的である。ウェハのみを加熱し、反応容器が加熱されない方式あるいは装躍をコールドウォール型のCVDと呼んでいる。たとえば、ヒータを埋め込んだサセプタ上にウェハを載せる形式、ランプでウェハのみを加熱する方式がある。
反応容器が加熱されないので、反応容器表面での反応が生じにくく，不要な堆積が起こらず、パーティクルの発生が抑制される特徴がある。
近年ウェハ径が大きくなり、また金属CVDでは減圧環境下で堆積を行うことが多いので、ウェハを1枚づつ処理する枚葉型CVD装置が主流になっているが、この枚葉型装置では、基板のみを何らかの方法で加熱するコールドウォールが主流である。
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