半導体用語集
スパッタ率
英語表記：sputtering yield
入射イオン又は中性粒子1個当たりに対して、ターゲット表面から叩き出される原子又は分子の数の統計的割合。スパッタ率はイオンの種類やエネルギーの大きさ、イオン入射角度、ターゲット材料及びターゲット結晶構造、両方位により変化する。
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