半導体用語集

デュアルゲート

英語表記:dual-gate

ソースとドレイン間の構造で、各ソースとドレイン間にそれぞれP型とN型のゲートを持つFET構造、あるいはソースとドレイン間に二箇所の平行したゲートを有するFET構造をいい、前者はMOSロジックデバイス等で、後者は不揮発性メモリ等で使用される。後者は、微細化に伴うチャネル設計の最適化のため、従来のN型のゲートのみを用いる構造からチャネルの極性毎にP型とN型のゲートを作り分ける構造へと変化、普及したものであり、近年イオン注入の重要なプロセスの一つとなっている。


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