半導体用語集
ドープドオキサイド
英語表記：doped oxide
不純物を含んだ酸化膜をシリコン上に形成しこの層を拡散源とする固体拡散の一方法。ドープドオキサイドはCVD法などで堆積させ、その後の熱処理において拡散を行う。不純物の表面濃度、拡散深さは、ドープドオキサイド中の不純物濃度、加熱炉の温度によって制御する。広く用いられているドープドオキサイドと しては、BSG (Boro-Silicate Glass)、PSG (Phospho-SiIicate Glass)、ASG (ArsenoSilicate Glass)がある。
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