半導体用語集

マグネトロン スパッタリング装置

英語表記:magnetron sputtering system

電界に交差する磁界の印加により陰極から出た電子にトロコイド運動を行わせて、ターゲット上に高密度のプラズマを作り、比較的低電圧でスパッタ速度を高めることができるスパッタリング装置。ペニングマグネトロンの応用からマグネトロンと呼ばれ、同じ原理の装置は直交電磁界型スパッタリング装置と称される。


関連製品

「マグネトロン スパッタリング装置」に関連する製品が存在しません。

関連用語

関連特集

「マグネトロン スパッタリング装置」に関連する特集が存在しません。




会員登録すると会員限定の特集コンテンツにもアクセスできます。