半導体用語集
マスク/レチクル
英語表記：mask/reticle
通常のマスクは、石英基板に回路バターンが形成されている。この回路バターン部は、クロム(Cr)などにより露光光に対し完全に遮光されパターン部以外は透過させている。また、逆に回路パターン部は透過させパターン部以外が遮光されている場合もある。最近では超解像技術として、ハーフトーン型位相シフトマスク、空間周波数変調型位相シフトマスク(レベンソン型位相シフトマスク)などの、光が透過する部分に、シフタといわれる光の位相(光の光路長)を変化させる部分を設けている位相シフトマスクも開発されている。密集ラインパターンおよび孤立ラインを含むランダムなパターンを設計寸法どおりに高精度に形成するために、シェリフパターンやマスクバイアスを加え近接効果補正を行っている。リソグラフィ工程においては通常レチクルカセットに入れられ、露光装置においてはレチクルカセット棚に複数枚保管され、マスク自動チェンジャによって必要なレチクルを自動的に露光位置へ搬送、交換される。また、 異物付着からの保護をするためにパターン面にはべリクル保護膜を貼りつけて使用されるのが通常である。
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