半導体用語集
傾向管理
英語表記：trend control
主として管理図や管理図法を用いて、製品（プロセス）のできばえや装置の状態を管理すること。工程能力と併用して使われる場合が多い。
特に先端のLSI製造においては、プロセスそのものや装置・部材にも多くの不安定な要因を含むため、ライン内でのプロセス、装置管理の重要性は高く、主要工程では管理図を使用した安定度の確認が実施されている（表1）。
管理図は従来のデータから求められたばらつきを基に、通常の状態でのデータのばらつき範囲を示す管理限界線を引き（通常、平均±3σに設定される。σ : 標準偏差）、測定データをチャート上に打点したものである。点が管理限界線の中にあれば、工程は安定状態にあり、管理限界線の外に出れば、プロセス・装置状態に変化があったものと判断する（図1）。
管理限界はずれの他にもデータの上昇・下降・偏りの傾向などからも変化を検出することが可能で、これらの傾向を異常判定ルールとして使用することから傾向管理と呼ばれる場合がある。
管理図は扱う統計量によって様々な種類があるが、LSI製造でよく使用される管理図として、X⁻管理図、X⁻-R管理図がある。
近年のLSI製造ラインにおいては、プロセス・装置毎の測定データが自動的に収集され、コンピュータによる常時監視により、異常傾向を早期に検出し、関係部門にリアルタイムにアラームをあげるシステムが開発されている。これらのシステムの活用により、製品の異常発生を未然に防止することが可能となる。
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