半導体用語集
現像均一性
英語表記：CD utiiformity
ウェハ上に形成されたレジストパターン寸法のばらつきを示す指標。デバイス設計上設定された、レジストの加工寸法; CD (Critical Dimension) が現像処理後、どれだけばらついているかを示す。一般的には、測長SEM と呼はれるウェノ、非破壊の走査型電子顕徴鏡で寸法測定される。
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