半導体用語集
薄膜形成装置
英語表記：thin film deposition system
半導体製造工程における絶縁膜、電極配線膜、半導体膜を形成する装置の総称。薄膜形成原理において真空蒸着装置、スパッタリング装置などのPVD装置(Physical Vapor Deposition System)とCVD装置(Chemical Vapor Deposition System)それにエピタキシャル成長装置に大別される。
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