半導体用語集

超高周波

英語表記:ultra high frequency

プラズマ発生に使用される周波数帯は、主としてMF帯 (0. 3~3 MHz)、HF帯 (3~30MHz)、VHF帯 (30~300MHz)、UHF帯 (300~3,000 MHz)、SHF帯 (3~30 GHz) である。最近、13.56MHz以上の周波数帯を超周波数と呼び、高密度プラズマ発生に使用されている。プラズマの電子密度は、100MHz 程度まで周波数の2乗で大きくなるため、小さな電力で高密度のプラズマ形成が可能である。最近、エッチングプロセスにおいては、UHF帯の周波数を用いたプラズマ生成が行われ、電子温度が低い高密度プラズマがえられることが明らかになっている。このようなプラズマは、高密度のプラズマでありながらも低電子温度であるため、反応性ガスの解離を抑制することができるという特徴を有している。最近、超高周波を用いて形成したプラズマをエッチングやCVDプロセスに応用する研究開発が行われている。


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