半導体用語集
隠面消去
英語表記：Hidden surface removal
隠面消去の方法にはZソート法とZバッファ法が広く用いられている。Zソート法は，ポリゴンのある頂点の奧行き値Zでポリゴンをソートし，奧にある(Z値の大きい)ポリゴンから順番に描画するという方式である。処理は簡単であるが，ポリゴン同士が交差するような場合には期待する描画結果とはならない。これに対して，Zバッファ法は，各画素のZ値を格納するZバッフアを用い，1画素ごとに隠面消去を行う手法である。ポリゴンを描画する際には描画する画素のZ値(ポリゴンの項点のZ値から線形補間で求める)と，Zバッフア内で対応する画素のZ値とを比較し，描画画素のZ値の方が小さい場合のみ，その画素をフレームバッフアに描画するとともに，ZバッファのZ値を描画画素のZ値で更新する。これによって，ポリゴンの描画順序によらず，常に観測者から直接みえる画素のみが描画されることになる。
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