半導体用語集
IPA乾燥
英語表記：IPA vapor drying
表面に水分が付着している被乾燥ウエハを、下部がヒータで温められている槽に置き、その槽の下部から窒素などをキャリアガスとしたイソプロピルアルコール(IPA)蒸気を供給する。するとウェハ上の水分がIPAと置換する。 その後ウェハを槽から引き上げると、IPAはウェハ表面から揮発し、ウェハの乾燥が完了する。しかしIPA中の水分量を制御し、IPAの加熱システムやその流速を最適化しないとよいパフォーマンスはえられない。特にウェハが200mm以上と大口径化するに伴い、ウェハ面内で温度勾配か 生じ、均一な処理が難しくなる。さらにIPAが完全に揮発せず、表面に一部残留して有機物汚染とならないよう注意しなけれはならない。しかしこの方法はスピン乾燥のように装置に可動部分が少なくパーティクル汚染の問題が少ないので、現在においては乾燥方法の主流となっている。
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