半導体用語集
IPA乾燥
英語表記：isopropyl alcohol drying
半導体製造プロセスにおける、洗浄後のウェーハ乾燥法の一種で、IPA（イソプロピルアルコール）を用いて行う方法。IPAは水よりも揮発性が高いため、ウェーハ表面に付着した水分をIPAに置換して、迅速に乾燥することができる。IPA乾燥にも、直接置換乾燥、蒸気乾燥、マランゴニ乾燥がある。
直接置換乾燥とは、IPAにウェーハを浸漬して乾燥させる方法である。蒸気乾燥とはIPAの蒸気をウェーハにさらし、乾燥させる方法である。マランゴニ乾燥とはマランゴニ対流を利用した乾燥方法である。これらのIPA乾燥では、ウェーハ表面の水分がIPAに置換され、その後、アルコールが蒸発することによってウェーハ表面が乾燥される。このため、ウェーハの表面に凸凹がある場合や濡れ性の高い膜などが形成してある表面においても効率よく乾燥することができる。一方、乾燥が十分に行われないと、ウォーターマークと呼ばれるシリコン酸化物のシミ状異物が発生することがある。しかし、アルコールを高温に加熱するので火災事故などの危険性が高いこと、またIPA中の含水率が高くなると乾燥能力が低下するので、高頻度の交換を要するなどの問題点がある。
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