半導体用語集
X線露光装置
英語表記：X-ray aligner
軟X線でマスクやレチクル上のパターンをウェーハ基板上のレジストに転写する露光装置の総称。露光方式は、光露光のステップ露光方式と同じ。焦点深度が大きく、ウェーハ上のパターン段差に対する許容量が広いが、スループットが低い。また縮小投影が難しく、高品位、高精細のマスクが必要。
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