半導体用語集
ウェル
英語表記：Well
p-Si基板にPMOSを作るためには、基板にｎ-型の領域を作り込むことが必要になる。この様な構造は井戸のような形となるためをウェル（Well）と呼ばれる。この場合はｎ-ウェルとなる。また、不純物層がp-ｎ-p-ｎの配置でサイリスタと同じ構造になる場合はラッチアップが起こり、ICの破壊を起こす場合が有る。このため、適度な不純物濃度のp-Will、ｎ-Wellを形成して」これを回避する。この場合のWell構造をツィン（twin）Wellと呼ぶ。さらに深い領域にディープ(Deep)Wellを形成して、Cell毎のVthを変調のための基板バイアス印加、ノイズ抵抗、α粒子によるソフトエラーの影響低減のための方策がとられる事もある。この様な構造をトリプル（Triple）ウェルと呼ぶ。
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