半導体用語集
ウォーターマーク
英語表記：water mark
洗浄乾燥工程で洗浄物面上に残留または付着した水滴によって生じるしみ。ベアシリコン表面で水が乾燥する際等に次のステップで起きると考えられている。(1)Siの水への溶解（2）Siイオンと溶存酸素が反応（3）反応生成物としてシリコン酸化物が乾燥表面に析出する。従って酸化膜で覆われた面やN2等の不活性ガス雰囲気下での乾燥工程では表面水滴に酸素が供給されないので、生成を抑制できる
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