半導体用語集
スピン乾燥
英語表記：spin drying
ウェハを高速で回転させ、その遠心力でウェハ上の水分を除去する方法で ある。簡単な方法であるので一般的な乾燥法として普及しているが、原理上、装置の可動部分が多いのでそこが発じん源となり、また静電気の発生によりウェハを再汚染してしまうおそれがある。また、ミクロンからサブミクロン以下の径の水滴はこの方法では除去することが難しく、特にフッ酸溶液処理後のような疎水性の表面や、表面に微細なパターンが形成されているような場合には、このような水滴が残留しているところだけ自然酸化が進行し、いわゆるウォータマークと呼ばれる一種の欠陥が生じてしまう。したがって、今後は他の方法が主として用いられると考えられる。
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