半導体用語集
ケミカル汚染
英語表記：chemical contamination
慣習的・総称的に"ケミカル汚染"と呼称されるが、実質的にはガス汚染（gaseous contamination)
、化学汚染（chemical contamination）、分子汚染（airborne molecular contamination）を含む。
空気中に分子状で存在するガス状汚染物質によって半導体などの生産品が汚染されること。汚染物質は、酸性ガス・塩基性ガス・有機物・ドーパントに大別できる。有機物ではウェーハに付着しやすいものにシロキサンやDOPがある。汚染に至る濃度と影響を受ける半導体デバイス特性不良は多種多様であり、現在活発な研究対象になっている。ケミカルエアフィルタ、エアワッシャで除去したり、アウトガスの少ない建築・建築設備材料を用いて発生源を無くす対策が講じられている。
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