半導体用語集
コンタクトホール
英語表記：contact hole
シリコン基板の導電層やゲート電極と上層配線、あるいは上層と下層の配線を結ぶために設けられた導通をとるための配線個所のこと。導電層や電極、配線上に層間絶縁膜を形成した後、所望の個所に下層の導電層や配線まで貫通したホールを開口し、この中に上層配線となる導電性物質を流し込んで下層配線と電気的に接触させる。また、タングステンを埋め込んで下層との導通を確保した上に上層配線を形成するなどの方法が採られる。微細化が進み、アスペクト比の高いコンタクトホールに対しては後者のプロセスが用いられるケースが多い、一方、Cuデュアルダマシン法では、メッキ法などを用いてコンタクトホールと配線部分のCu膜が同時に形成される。特にメタル配線間を結ぶコンタクトホールに対しては、ビアホールと呼んで区別するケースが多い。
関連製品
「コンタクトホール」に関連する製品が存在しません。キーワード検索
フリーワードやカテゴリーを指定して検索できます
関連用語
関連特集
会員登録すると会員限定の特集コンテンツにもアクセスできます。
