半導体用語集
シリル化プロセス
英語表記：silyl process
レジスト自体に工ッチングの選択性を持たせる処理表層イメージング一種。単層と2層のプロセスがあり、処理手法も気層反応, 液層反応それぞれを用いたものがある。
A)気相シリル化処理
アドヒージョンユニットと近似のモジニールで処理される。密閉されたチャンバ内にレジスト塗布およびパターニング露光されたウェハを載置し、蒸気状のシリル化剤をウェハ上に噴霧する。処理条件の最適化のために、ウェハやシリル化剤を加熱温調する場合もある。
B )液相シリル化処理
現像装置を代用して処理される。バドル現像法を用いてウェハ上に液体のシリル化剤を液盛りし、任意の処理時間中、静止放置する。
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