半導体用語集
スプレー現像
英語表記：spray developing
レジスト現像手法の一種。現像液を窒素、もしくはポンプで加圧し、現像ノズル先端より噴霧状の液をウェハ上に吐出する。扇状の噴霧流束の最大広がり幅は、ウェハ直径もしくは半径に合わせて調整されており、噴霧しながらウェハを低速で回転させウェハ全面に現像液が当たるようにする。30～60秒の現像時間中、現像液吐出とウェハ回転を続ける手法と、ウェハ前面に現像液が行き渡った後、吐出と回転を停止し、パドル現像を行う手法とがある。
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