半導体用語集
パターン位置精度
英語表記：pattern placement accuracy
X線マスクパターンの設計座標に対する現実パターンの相対的位置の正確さ。単にX線マスク精度ということもある。通常は多数のパターンの設計位置に対する誤差を測定して、ばらつき(3σ)もしくは最大値で表わす。X線リソグラフィをLSI製造現場に導入するためには、高い重ね合わせ精度が要求され、これを実現するにはX線マスクのパターン位置精度を高めることが必須の条件となっている。たとえば、最小パターン寸法が130、100、70nmのLSIで要求されるX線マスクに割り振られるパターン位置精度は、米国のSIA (Semiconductor Industry Association)の1997年ロードマップでは14、10、8nmとされている。これらの精度を有するX線マスクを製造するためには,電子ピーム描画の描画位置誤差のみならず、X線マスク製造プロセスの途中で誘起されるプロセス歪を徹底的に低減しなければならない。
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