半導体用語集
プラズマ洗浄
英語表記：plasma cleaning
低圧下の環境（～1 Torr前後）で、気体分子を高温に加熱するか、RF、DCグロー放電により加速された電子または電子に近い短波長の放射線が気体分子に衝突すると、分子は電子、イオン、ラジカルに解離しプラズマ状態となる。プラズマ状態時は分子、ラジカル、イオンへの衝突を繰り返している。このとき解離したエネルギーからプラズマ光が発生する。このプラズマ状態を用いて、被洗浄物を分解、除去する洗浄がプラズマ洗浄である。被洗浄物は、イオン、ラジカルの活性力による化学反応で揮発性反応生成物となり、真空排気される。また、イオンと被洗浄物との電位差を利用して、イオンが被洗浄物表面上の洗浄物に物理的に衝突するか、叩くことにより、洗浄物が被洗浄物表面から飛散する。もしくは、衝突後、洗浄物が化学反応で揮発性反応生成物となり洗浄される。これらの洗浄に用いられる気体分子には例として、CFなどの反応性ガスやArなどの不活性ガスがある。
関連製品
「プラズマ洗浄」に関連する製品が存在しません。キーワード検索
フリーワードやカテゴリーを指定して検索できます
関連用語
関連特集
「プラズマ洗浄」に関連する特集が存在しません。
会員登録すると会員限定の特集コンテンツにもアクセスできます。
