半導体用語集
マグネトロン
英語表記：magnetron
低圧のガスの中で磁場に直交するように電界を印加することによって生成されたプラズマでは、電界に沿って電子が運動するのに対して運動方向に直角に磁場が印加されているために、ローレンツカにより磁力線を軸として電子は旋回運動を行う。この時、直交する一様な電界Eと一様な磁界Bが印加された空間において、速度vで動く電子は、-evxBのローレンツカを受け、evB=ｍ2v2/γより、半径γ=ｍv/eBで表わされるラーモア半径にて旋回すると同時に、ドリフト速度ｖ=EB方向へ並進運動する。このような円運動と並進運動との合成をサイクロイド運動と呼ぶ。
マグネトロンプラズマにおいては,平行平板電極を有したプラズマ装置において、平行平板電極に高周波を印加するとともに電極に平行となるように磁界を印加する。カソード電極においては、シースに強い電界が印加されており、この電界により電子はE×Bドリフト運動を生じる。すなわち、プラズマからシースに進入し、減速する電子やカソードへ衝突した正イオンにより発生した二次電子は、シース内ではサイクロイド運動し、旋回して反応性ガスと非弾性衝突してイオンやラジカルを生成するのと同時に、E×Bドリフト運動しながら並進運動していく。これにより、高効率でイオンやラジカルを発生し、高密度のプラズマが形成される。
マグネトロンプラズマでは高密度のプラズマが基板表面に生成されるために、反応容器壁との相互作用が小さいという点で優れている。しかし、E×B ドリフト運動により電子が一方向に偏るために、プラズマが不均一になることが問題である。これについては、 磁石を回転させることや、基板と平行に均一な磁石を形成するダイポールリングマグネットが開発され、均一なプラズマ生成が可能になり、エッチングプラズマ源に用いられている。
関連製品
マグネトロンスパッタリングターゲット市場規模、シェア分析、成長動向およびメーカー（2025–2035）
KD Market Insights Private Limited
KD Market Insights は、「Magnetron Sputtering Target Market Future Trends and Opportunity Analysis – 2025 to 2035（マグネトロンスパッタリングターゲット市場の将来動向と機会分析 – 2025～2035）」というタイトルの市場調査レポートを発表しました。本レポートの市場範囲には、現在の市場動向や将来の成長機会に関する情報が含まれており、読者が十分な情報に基づいたビジネス判断を行えるよう支援します。
技術／特許／M&A › 技術 › 半導体（素子・構造・回路など）
キーワード検索
フリーワードやカテゴリーを指定して検索できます
関連用語
関連特集
会員登録すると会員限定の特集コンテンツにもアクセスできます。
