半導体用語集
側壁スペーサ
英語表記：side-wall spacer
方向性の強いドライエッチングでは、望ましくない膜が段差のある下地層の縁に残存することがある。これを逆手にとって、エッチングやイオン注入のマスクに用いたものが側壁スペーサである。
導電性のある膜を残存し、これをそのままMOSトランジスタのゲートに用いると、高い膜厚制御性を利用して、ごく短いゲートをえることができる。光を用いたリソグラフィが困難になる0.1μm以下、10nmでも可能である。
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