半導体用語集
光露光装置
英語表記：optical aligner
フォトレジストに感度のある可視光から紫外線で露光を行う装置。光源としては、当初は超高圧水銀灯のｇ線（436nm）あ主力であったが、想像力の要求が高くなるにつれi線（365nm）またエキシマレーザが使われるようになり、KrF（248nm）、ArF（193nm）とより短波長の光源が使われるようになってきた。また、露光方式も当初はマスクとウェーハを密着させるか、数ミクロン近接させるコンタクト露光方式やプロキシミティ露光方式から、レチクルを5分の1に短小露光するステッパ方式が主流となった。最近では、レチクルとウェーハを短小倍率の比で捜査してスリット露光させるスキャナ方式もある。
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