半導体用語集
凹型セル
英語表記：凹 type cell
DRAMにおけるスタック型キャパシタ構造の一種。コンケープ型（concave type）セルとも呼ばれている。
DRAMセルキャパシタの蓄積電極の形状がホール（孔）の内側に円筒状に形成され、その円筒の内側にキャパシ夕絶縁膜と対向電極が形成されているものをいう。
凹型セルの形成方法を以下に簡単に示す。COB（Capacitor Over Bitline）構造のDRAMの場合には、ビット線を形成後にまず全面にSiO₂などの絶縁膜を形成する。その後、DRAMセルアレーのキャパシタを形成する領域にホールを形成し、蓄積電極となる材料（ドーピングされたポリシリコンやメタル電極など）を薄く形成する。続いて、蓄積電極として不要となる絶縁膜上部表面上の電極材料をCMPやエッチバックなどの方法を用いて除去し、ホールの内側のみに蓄積電極が残るような構造を作成する。さらに、キャパシタ絶縁膜とプレート電極を形成して凹型セルを作成する。この構造では、蓄積容量を形成するキャパシタは凹型電極の内側表面を用いているため、従来の単純スタック型キャパシタにくらべて、投影面積に対する実際のキャパシタ有効面積が大きく、微細なセルで大きな容量をえるのに適している。
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