半導体用語集
化学増幅型レジスト
英語表記：
ステッパのスループットを上げるため、極めて短時間の露光を行うので、フォトレジストに十分な光エネルギーを与えることが困難になってきた。熱で化学反応を起こす感度の良い化学増幅型レジストがでされた。酸発生材を加えて露光すると、酸が発生し、アルカリ水溶液に溶けるポリマーに変わる。露光後に約100℃でベーキング（PEB;Post Exposure Baking）を行うと、再び酸を発生し、この酸が再びアルカリ水溶液に可溶なポリマーを作り、これを繰り返すことにより反応が進行する。
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