半導体用語集
成長縞
英語表記：growth striation
結晶成長過程で不純物を添加（ドープ）すると、成長界面における融液振動、不安定な対流、融液の温度不均一や時間的な温度変動の影響で局所的な濃度の変動が生じ、固化した結晶中の不純物濃度の不均一をもたらす。この不純物濃度不均一は固液界面の形状を反映し、成長縞（growth striation）として観察される。成長縞は結晶の引き上げ方向には直線的に変化するが、断面をスライスして作製したウェハでは面内に渦巻き状または同心円状の濃度分布を示す。成長縞はイメージセンサでの面像ムラやｗell構造を持たないMOSFETのVth変動の原因となるため、素子の致命的な問題の原因となる場合がある。成長縞を抑制するには、磁界下CZ（Magnetic-field applied CZ:MCZ）法で対流や温度変動を抑制したり、CZ基板にエピタキシャル成長を行うことなどが有効である。
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