半導体用語集
熱酸化膜
英語表記：Thermal Oxide Film
熱酸化膜とは、酸素雰囲気中のSiウェハを加熱することにより、Si自身の表面を酸化し、Si酸化膜（SiO2）に変換する技術である。熱酸化膜の膜質は非晶質（Amorphous）で物性的に安定しており絶縁性にも優れている。また極薄い成膜も可能である。熱酸化により形成された酸化膜とSi基板との界面は界面順位が少なく安定している。これがSiでMOSトランジスタが実現できた理由である。膜質や酸化速度は「温度」「時間」「酸化雰囲気」「SiO2中の酸化ガスの拡散係数」に依存して成長する。
＊酸化方式：
・常圧酸化 -----・ドライ酸化
*熱酸化-----・高圧酸化 -・ウエット酸化
・減圧酸化 -・水素燃焼酸化
-・塩酸酸化
＊応用例：
・STIサイドウオール ・ゲート絶縁膜 ・不純物拡散マスク（熱拡散）
・LOCOS（Local Oxidation of Silicon）
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