半導体用語集
超音波洗浄装置
英語表記：ultrasonic cleaning equipment
可聴周波数より高い音（20ＫHz以上の振動：超音波）を利用して、シリコンウェーハを主体とする半導体部品を洗浄する装置。洗浄液中で、超音波はキャビテーション（液中で発生、破砕を繰り返す真空の泡）と液の振動化速度等が汚れを除去する。洗浄に利用される周波数は、30ｋHz～1MHz程度で、低周波ではキャビテーション主体の洗浄力、周波数が高くなると加速度主体の洗浄力が作用する。
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