半導体用語集
超音波洗浄装置
英語表記：ultrasonic cleaning equipment
可聴周波数より高い音（20ＫHz以上の振動：超音波）を利用して、シリコンウェーハを主体とする半導体部品を洗浄する装置。洗浄液中で、超音波はキャビテーション（液中で発生、破砕を繰り返す真空の泡）と液の振動化速度等が汚れを除去する。洗浄に利用される周波数は、30ｋHz～1MHz程度で、低周波ではキャビテーション主体の洗浄力、周波数が高くなると加速度主体の洗浄力が作用する。
関連製品
Sonosys社 超音波洗浄装置 (バス・タンク式洗浄用）
ティックコーポレーション株式会社
半導体や基板の洗浄の問題を解決します
半導体製造装置・試験／検査装置・関連部品 › 洗浄装置・ウェット処理装置 › バッチ式洗浄装置
Sonosys社 超音波洗浄装置 (枚葉洗浄）
ティックコーポレーション株式会社
半導体や基板の洗浄の問題を解決します
半導体製造装置・試験／検査装置・関連部品 › 洗浄装置・ウェット処理装置 › 枚葉式洗浄装置
キーワード検索
フリーワードやカテゴリーを指定して検索できます
関連用語
関連特集
「超音波洗浄装置」に関連する特集が存在しません。
会員登録すると会員限定の特集コンテンツにもアクセスできます。
