半導体用語集
電子ビーム露光装置
英語表記：electron beam exposure system
電子ビームで露光する露光装置。ビームのスキャン方式で、ラスタスキャン式電子ビーム露光装置とベクタスキャン式電子ビーム露光装置に分類される。ウェーハに直接電子ビームで描画する装置を電子ビーム直接描画装置と呼ぶこともある。
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