半導体用語集
振動
英語表記：vibration
描画精度を悪化させる睾因の一つで、周囲の装置から床や空気を介して伝わる機械および音響振動、装置自体が持つアクチュエータや真空ポンプなどが発する機械振動が代表例である。設計思想上、電子ビーム露光装置は剛体であると仮定され、体内では試料を載置したステージのみがビームの照射方向と垂直なXY平面内で移動するとしている。したがって、機械的振動によって生しるステージの振動はXY方向のみであり、XYのゆらぎ変位をレーサ干渉計によって常に計測していれば、機械振動の周波数にくらべてはるかに高い応答周波数を持つビーム偏向系によってショット位置補正は容易になされ、パターン設計データどおりに描画できることになる。しかしながら、実際には装置を剛体と見なすことには無理があるため、床からの振動はゴムや空気ばね除震台を用いて振動が描画精度に与える影響を低減している。しかし、クリーンルーム内のクリーンエアーの流れによって 1～3Hz程度(共振点)の振動が誘起されたり、定盤上のアクチュエータからの振動や、ステージが移動した時の重心移動に伴う定盤傾きが除去しきれないで描画精度が低下する。このため定盤上の構成部品の共振点を高くしたり、剛性を上げるなどの対策を施しているのが現状である。最近では,定盤の振動を感知し、これを補正する電子制御付精密除震台が開発されている。また定盤を含めた装置全体の振動系を考えて制御することも行われている。振動は除震から制御へと移り変わりつつある。
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