半導体用語集
FUSI
英語表記：Fully Silicided
ゲート電力のメタル化には、NiやCoのシリサイドが用いられることが多い。ソース・ドレインのコンタクト部の窓明けをした後、ウエハ全面にスパッタでNiまたはCoを付け、加熱するとメタルがシリコンと反応して、NiSiまたはCoSiとなる。マスク合わせ無しで自己整合的にコンタクト電極が形成できるので、これをSALICIDE（Self Align Silicide）とゲート電極のポリシリコンが完全に反応して全てシリサイドになっている場合を、FUSI（Fully Silicide）と呼ぶ。ゲート電極がメタル化された現在では、制御性の良さから、ゲート電極には専ら窒化チタン（TIN）用いられている。
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