半導体用語集
RC遅延
英語表記：RC delay time
半導体デバイスにおいて、配線抵抗R（Resistance）や配線間容量または層間容量C（capacitance）の影響で、入力から駆動までの時間が遅れること。配線間容量、層間容量は、配線を導体としてその間に存在する層間絶縁膜が誘電体の役割を果たすことで、結果的にコンデンサができてしまうために発生する。コンデンサの寄生容量を充電または放電させるために、余分な駆動時間がかかるため問題となる。半導体デバイスの設計ルールが微細化するにつれ、配線間が接近し、、問題視されるようになった。また、配線抵抗は配線材料や配線の形成方法等といった物性のほか、RIE（Reactive Ion Etching）で形成される配線の場合は下地の層間絶縁膜の表面平坦度によって決定されるため、層間絶縁膜表面がCMP等によって完全平坦化されている方が有利である。
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