半導体用語集
イオン源
英語表記：ion source
イオン注入に用いる各種元素のプラズマを生成する部分。放電の種類により、直流型、高周波型およびマイクロ波型がある。直流型が最も一般的に用いられており、直線状の電子放出フィラメントをもつバーナス型がある。バーナス型はフリーマン型に比べてプラズマによるフィラメントの消耗度合いが少なく、より多くの多価イオンが得られる特徴をもつ。また、カソードを間接的に加熱して熱電子を放出させる方式の傍熱型イオン源がある。
関連製品
「イオン源」に関連する製品が存在しません。キーワード検索
フリーワードやカテゴリーを指定して検索できます
関連用語
関連特集
「イオン源」に関連する特集が存在しません。
会員登録すると会員限定の特集コンテンツにもアクセスできます。
