半導体用語集
ステンシルマスク
英語表記：stencil mask
縮小転写あるいは等倍露光イオンビームリソグラフィに用いられるマスクの一種で、3ミクロンほどの厚さの薄膜に、露光したいパターンに対応する開口部を有するマスクを指す。具体的な構造としては、SOI基板を用いて、上層のSi層に電子線露光技術などでパターン形成し、ドライエッチングにより所望の開孔パターンを形成した後、基板裏側からKOHなどのウエット工ッチングにより下層Siを工ッチングする。また、イオンビームが照射される最上層には、100nm程度の厚さの炭素膜を堆積し、イオン照射によるSi結品の損傷、および応力変化によるパターン精度の低下を防いでいる。ステンシルマスクでは、ロの字型のパターンは形成できないことから、このようなパターンを含む場合は、2 枚以上のマスクを作製する必要がある。また、薄膜の機械的強度の確保とロの字型のバターンを形成するために、ウェハ上での解像度以下の寸法を有するグリッド上の構造とするステンシルマスクの報告もある。
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