半導体用語集
ステージ姿勢
英語表記：stage attitude
移動時のステージが取る動きのふらつきをステージ姿勢といい,そのふらっきの度合をステージ姿勢精度と呼ぶ。
ステージ姿勢精度を表現する項目としては、ピッチング、ローリング、ヨーイング、上下動、蛇行および速度変動があげられる。ステージの移動方向をxとyにした時に、XY平面と直交する方向をzとすると、x方向移動中のx軸回りのステージ傾きをxローリング、y軸回りのステージ傾きをxピッチング、z軸回りのステージ傾きをxヨーイング、z軸方向の位置変動をx上下動、y軸方向の平行移動をx蛇行,x軸方向の平行移動をx速度変動と呼ぶ。y方向移動時にも同様の姿勢精度が定義される。ピッチング、ローリング、ヨーイング、上下動および蛇行は、ステージ構成部品の加工精度や組み立て精度(駆動機構も含めて)の不良や、ステージの走行に伴い重心位置が動くことで、ステージに加わる曲げモーメントが変化するなどで発生する。ピッチング、ローリングおよびヨーイングはレーザ干渉計によるステージ位置測定点と、ビーム照射位置(加工点)との位置がずれることで、アッベの誤差を生じさせ、また上下動は電子ビームを偏向した際のビームの着地点を変化させるため、描画位置に誤差を発生させる。一方、蛇行は走行時の横揺れでレーザ干渉計によってその位置が正確に計測されビームの偏向位置に補正が加えられるため描画精度には影響を与えない。速度変動は、ステージで使われる軸受け内の転動体とリニアガイド間のスティックスリップや、ステージと駆動機構とを結ぶ伝達系の剛性の低さなどによって発生する。電子ビーム描画装置ではステージを連続移動させながら描画を行うため、ビームは描画位置を予測してショットされる。このため速度変動が生じるとステージ位置が予測位置と異なることになり、描画精度が低下する。現在の電子ビーム描画装置で使われるステージに要求される姿勢精度は、ピッチング、ローリング、ヨーイングで土1"以下、上下動で土2μm以下程度である。なお、速度ムラの目標値はステージ速度などに依存して変化する。
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