半導体用語集
ステージ連続移動
英語表記：Stage continuous movmg
ステージを連続的に移動させることをステージ連続移動という。
電子ビーム露光では、ビーム偏向量が限られるため、ーつの偏向領域を描画してはステージ移動を繰り返す。ス テップアンドリピートではステージ加減速に伴う無駄時間が多いため、これを解消してスループットを向上させることを目的として、ウェハを連続的に移動しながらパターンを描画するステージ連続方式の描画装置が開発された。代表的な描画方式は、可変成形ビーム/べクタ走査/ステージ連続移動である。試料を移動させながらビームの走査幅の帯状領域(ストライプやフレームなどと呼ぶ)の露光が完了すると、ステージを連続移動方向とは垂直方向にステップ移動させ、隣のストライプを同様に露光する。これを繰り返すことで試料全面の露光を行う。ステージ速度は、パターンの密度や露光量によって決定されるが、スループットをより向上させるためにストライプ内のパターン密度によってステージ速度を可変する方法もある。基板およびステージは電磁レンズが発生する強い磁界の中を移動するが、磁界中を導体が移動する場合、導体中に渦電流が発生する。ステージ連続方式では、描画中にステージが移動するため、渦電流磁界によってビーム位置精度が劣化するおそれがある。渦電流は導体の抵抗に反比例するが、絶縁体では帯電による電界でビーム位置誤差が発生する。渦電流を防止するため、ステージを半導体にするか金めつきなどが必要である。
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