半導体用語集
ハーフトーン型位相シフトマスク
英語表記：attenuated Phaseーshifting mask, half-tone phase-shifting mask
通常のマスクは、石英基板に回路パターンが形成されている。この回路パターン部は、クロム(Cr)などにより露光光に対し完全に遮光されパターン部以外は透過させている。 また、逆に回路パターン部が透過されパターン部以外が遮光されている場合もある。ハーフトーン型位相シフトマスクは、完全に遮光される部分にわずかな光を通し、かつ透過部との光の位相を変化させる層を設けているフォトリソグラフィ用マスクである。透過率は、2～20%位で使用されることが多いが、 20%以上の高透過率型のハーフトーン型位相シフトマスクも提案されている。ハーフトーン型位相シフトマスク材科の種類は、主にフッ化クロム系(CrF系)、モリプデンシリサイド系(MoSiO系)、タングステンシリサイド系(WSiO系) ,ジルコニウムシリサイド系(ZrSiO系)などがある。マスク構造は、材科、露光光、透過率、位相により異なるが、膜の組成を変えて透過率と位相を調整する単層で形成される構造と、透過率を主に変える層と位相を主に変える層などの多層で構成される構造がある。一般的に使用されている構造は、多層構造が多い。
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