半導体用語集
フュームドシリカ
英語表記：fumed silica
四塩化珪素を酸水素炎中で燃焼して得られるシリカ（二酸化珪素）微粒子で、その結晶形態は非晶質。その製造法から気相法シリカまたは発煙シリカとも呼ばれる。原料、水素、酸素の供給速度や燃焼温度を調節することで、粒子径をコントロールすることができる。一次粒子径は7～50nmと極めて微粒であり、これらが凝集し3次元状のネットワークを形成している。水に分散させた場合、コロイド的性質を示し、アルカリ添加で、シリカの沈殿が起こりにくい安定な分散液が得られる。層間絶縁膜のシリコン酸化膜をポリシングする場合には、水酸化カリウムやアンモニアをアルカリ安定化剤として添加する。また、アルミニウム、タングステン、銅などの金属をポリシングする場合は過酸化水素などの酸化剤を添加する。コロイダルシリカに比較し加工能率は高いが、反面スクラッチを与えやすい。比較的安価で高純度であるため、半導体デバイスのCMPに幅広く使用されている。
関連製品
「フュームドシリカ」に関連する製品が存在しません。キーワード検索
フリーワードやカテゴリーを指定して検索できます
関連用語
関連特集
「フュームドシリカ」に関連する特集が存在しません。
会員登録すると会員限定の特集コンテンツにもアクセスできます。
