半導体用語集
マイクロラフネス
英語表記：micro-roughness
Siウェーハの鏡面も100～1000nmのピッチで数nm以下の高さの凹凸ができている。このレベルの凹凸をマイクロラフネスといい、ウェーハの研磨条件、結晶方位、SC-1洗浄条件によって影響される。薄いゲート酸化膜の耐圧特性はマイクロラフネスの増大で低下するので、これを抑制するために標準組成のNH4OH比を数分の1以下にして洗浄する方向にある。
関連製品
「マイクロラフネス」に関連する製品が存在しません。キーワード検索
フリーワードやカテゴリーを指定して検索できます
関連用語
関連特集
「マイクロラフネス」に関連する特集が存在しません。
会員登録すると会員限定の特集コンテンツにもアクセスできます。
