半導体用語集
メガソニック洗浄
英語表記：megasonic cleaning
米国RCA社が開発した超音波洗浄方法で、1MHz近傍の極超音波を被洗浄物に液中で照射することを特徴とする。メガヘルツ（MHz）洗浄とも言う。一般に洗浄に使われていた超音波洗浄の周波数は20KHzー100KHz程度であったが、周波数が低いとキャビテーションの発生が起こりやすく、被洗浄物にダメージが入りやすい。また、1μm以下の微細なパーティクルの除去性が不十分である。周波数を上げるとキャビテーションしきい値の上昇によりダメージが発生しにくくなるとともに微細なパーティクルの除去効果が高められるメリットがある。洗浄槽の底部に振動板を配置したものはバッチ洗浄装置に用いられ、ノズル内部に振動板を設けて液を吐出しながら音波を重畳させるものは枚葉洗浄に用いられている。
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