半導体用語集
リンス
英語表記：rinse
半導体基板の製造プロセスにおいて、半導体基板の洗浄に使用された化学薬品を超純水などで洗い流すことを指す。RCA洗浄のように一つの洗浄工程で複数の薬液種を連続して使用する場合には、薬液が次の薬液槽に混入するのを防ぐためにリンス工程が必須となる。また、洗浄後に薬品がウェーハ表面に残留すると、逆にその成分が不純物イオンとして問題になりうるので、十分なリンスが必要である。手法としては、オーバーフロー方式、シャワー方式、QDR（クイックダンプリンス）などがあり、物理的な作用を加えてより薬液の置換効率をよくする工夫がなされている。また、パーティクル除去などを目的として超純水に微量の薬品を添加する方法もある。なお、QDRはシャワーしながら水を溜めたあと、急激に下方にリンス水を抜き出す方式である。
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