カテゴリー

スピンドロップレット洗浄技術における最適なリンス方法

グローバルネット株式会社
最終更新日: 2024年09月24日

産総研、根本 一正

ミニマルファブ

基本情報

　ミニマルファブのウェットプロセスでは、ウェハが直径12.5 mmと小さいため、ウェハエッジの表面張力を利用してウェハ表面に液体を保持したままウェットプロセス処理が可能であり、省薬液になりる。しかし裏面の洗浄やエッチングが課題となり、大口径ウェハでは裏面への薬液の回り込みは遠心力で防げるが、直径12.5 mmのハーフインチウェハを用いるミニマルファブでは、裏面への薬液の回り込みが無視できない。裏面を上にして洗浄すると、最初の表面が裏になり、再度汚れてしまう。この課題に対して、ウェハを保持するウェハステージにリングを装着することで、ウェハ裏面空間に薬液を溜めることができ、ウェハ上下の液体が一体化保持され、同時両面洗浄が可能になることが分かった。しかし表面張力が上昇したため、ウェハ洗浄薬液を超純水で置換するリンスが難しくなる問題が発生した。この問題に対しては、間欠的な純水リンスの使用によって、消費量を削減した効率的なリンス方法が効果的であることが分かった。残る課題は、薬液の種類別でリンス効率に違いがあることで、今回　薬液別のリンス性能を置換効率の観点から体系的に調査し報告する 。薬液から超純水へのリンス効率は、薬液の粘性、ウェットプロセスの液体容器構造、ウェハ表面の親水・疎水性、微粒子の残存に依存することが理解された。またSC1とSC2の比較から、表面化学反応性に違いがあることが示唆される。具体的には、SC1はパーティクル除去が目的のアルカリ洗浄であり、ウェハ表面に微粒子が付着しにくい性質があるため、リンス時間は短くて済むと考えられます。一方、DHFもSC2と同様に酸性であるため、SC1よりもリンスに時間がかかると考えられる。

お問い合わせ

取扱企業

グローバルネット株式会社

業種：産業用電気機器  所在地：東京都 中央地区 港区 1-2-10 堀川ビル6F

必要な情報をタイムリーに届けたい

グローバルネット株式会社（GNC）は出版やセミナーを通して、半導体やフラットパネルディスプレイの情報をタイムリーに提供することを目的に1990年に設立しました。そして2020年には創業30年を迎えます。
1994年にCMPプラナリゼーション委員会の事務局として活動する機会を経て、会員の皆様にCMP向け層間絶縁膜用テストウエハの提供を始めたことがきっかけとなり、テストウエハの試作・加工ファンドリビジネスに参入、事業化を致しました。

スピンドロップレット洗浄技術における最適なリンス方法 へのお問い合わせ

お問い合わせいただくにはログインいただき、プロフィール情報を入力していただく必要があります。

ログインしてお問い合わせ 会員登録をしてお問い合わせ
ご依頼目的 必須
ご要望 必須
お問い合わせ ご意見等

※お問い合わせの際、以下の出展者へご連絡先（所属名、部署名、業種、名前、電話番号、郵便番号、住所、メールアドレス）が通知されます。

スピンドロップレット洗浄技術における最適なリンス方法